灵鹊做题网直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下
来源：学生作业帮 编辑：灵鹊做题网作业帮 分类：综合作业 时间：2024/05/12 23:45:02
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下
还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?
粘贴无效哈
还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?
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1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的.本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的.详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里
2 这个说法不对.直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材）,并不局限于金属.譬如,对于铝靶,它的表面极易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累（靶中毒）,严重时直流溅射无法进行.这时候,就需要射频电源,简单的说,用射频电源的时候,有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷,不会发生靶中毒.
去找本书,《薄膜科学与技术》,里面解释的还行.或者半导体设备的书里面也会有涉及
2 这个说法不对.直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材）,并不局限于金属.譬如,对于铝靶,它的表面极易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累（靶中毒）,严重时直流溅射无法进行.这时候,就需要射频电源,简单的说,用射频电源的时候,有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷,不会发生靶中毒.
去找本书,《薄膜科学与技术》,里面解释的还行.或者半导体设备的书里面也会有涉及