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为什么Si+4HF=SiF4+2H2↑和SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O里前面的SiF4不打气体符号而后面的却要打

来源:学生作业帮 编辑:灵鹊做题网作业帮 分类:化学作业 时间:2024/06/15 21:55:45
为什么Si+4HF=SiF4+2H2↑和SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O里前面的SiF4不打气体符号而后面的却要打
为什么Si+4HF=SiF4+2H2↑和SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O里前面的SiF4不打气体符号而后面的却要打
四氟化硅确实是气体.
但写方程式时是这样规定的:
1、当反应物里没有气体,生成物中有气体时,气体生成物后面要加气体符号.
2、当反应物里有气体时,生成物中的气体后面的气体符号就可加可不加了.
所以,第一个反应之所以四氟化硅没有加气体符号,是因为这个反应中反应物中的HF指的是氟化氢气体,而不是氢氟酸,所以这时连氢气后的气体符号都可以省略.但如果HF指氢氟酸,那么生成的四氟化硅和氢气都必须加气体符号的.
同样,第二个反应中HF如果是指氟化氢气体,那么生成的四氟化硅后面的气体符号可加可不加.如果HF指氢氟酸,那么四氟化硅后面必须加气体符号.
还有什么不明白的地方可以再问我.:)